在半导体 PVD、CVD 及 ALD 等先进制程中，真空环境的纯净度直接决定了产品的良率。一个微小的气体泄漏、一次微不可察的副产物残留，都可能导致整批晶圆的报废，让企业承受巨大的停机损耗与成本压力。

海瑞思HM-150高压力残余气体分析仪，专为高压严苛工况打造，它就像产线的“防损尖兵”，以硬核技术重塑良率标杆，为高端制造的稳定生产保驾护航。

一、八大硬核性能，解锁监测新高度

HM-150基于先进的四极杆质谱技术，从精度、稳定性到响应速度，全方位满足高压复杂工况的监测需求：

01 高压兼容，适配多元工艺

支持最高2Pa工作压强，高效适配 PVD、CVD 及 ALD 工艺监测，无需复杂改造，即可快速接入现有产线。 

02 全谱扫描，精准识别

1-50 amu 及 1-100 amu 双质量数范围，支持全谱扫描与特定质量数扫描，可精准分辨 H₂、He、N₂、O₂、Ar 等气体，实现快速定性定量分析。

03 双检联动，覆盖全浓度范围

搭载 FC（法拉第杯）与 MCP（微通道板）双检测器，实现了从常量到痕量的全覆盖。

04 极致灵敏，锁定污染源

最低 2E-9 Pa 的分压检测限，无论是工艺气体的稳定性，还是 ppt 级别的微量污染物，都能被精准捕获。

05 双重防护，耐受极端腐蚀

提供钇铱/钨双灯丝方案，无惧卤素等腐蚀性气体侵蚀，核心部件寿命大幅延长，减少设备维护频率与成本。

06 毫秒响应，实时同步工艺

3ms/点疾速扫描速率，实时采集并分析气相数据，精准同步工艺变化，让污染隐患无所遁形，确保数据采集零迟滞。

07 智控预警，赋能数字化产线

支持API集成与自动监测报警功能，可实现数据自动采集、分析与异常预警，推动产线向智能化、数字化升级。

08 精准分离，保障数据可靠

搭载高精度金属四极杆，具备卓越的质荷比分辨率与性能一致性，能精准分离复杂气相中的各类组分，为工艺优化提供可靠数据支撑。

二、多元应用，覆盖多领域高端制造

HM-150凭借强大的性能，广泛适用于多种高端制造场景：

半导体制造：PVD/ALD/CVD（蒸发/溅射）、分子束外延（MBE）。

新型显示：OLED 有机蒸镀。

新能源：锂金属电池、固态电池极片制备、氢化物储氢材料、光伏生产。

高端材料：真空熔炼、真空烧结（难熔/活性金属）、真空钎焊与热处理。

光学光电：精密光学镀膜与光电子器件制造。

三、直击行业痛点，解决核心难题

痛点1  高压工况下痕量污染难监测

在PVD、CVD等高压制程中，常规RGA无法精准捕捉痕量杂质，导致污染隐患无法及时发现，最终引发良率波动。

HM-150解决方案：最高2Pa高压兼容+2E-9 Pa分压检测能力，在高压环境下仍能精准锁定痕量杂质，提前预防制程污染。

痛点2  腐蚀性气体缩短设备寿命

含卤素等腐蚀性气体的制程中，设备核心部件易被腐蚀，频繁更换不仅增加成本，还会导致产线停机。

HM-150解决方案：钇铱/钨双灯丝双重防护，耐受强腐蚀，核心部件长效稳定，大幅降低维护成本与停机时间。

痛点3  数据滞后导致工艺调整不及时

传统监测设备响应速度慢，无法实时同步工艺变化，等发现问题时，已造成批量产品报废。 

HM-150解决方案：3ms/点疾速扫描+实时智控预警，数据采集零迟滞，异常情况即时报警，让工艺调整更及时。

结语

掌控真空细节，决胜产线良率。HM-150高压力残余气体分析仪，以自主硬核技术，为企业提供了一款兼具精度、稳定性与性价比的产线良率“防损尖兵”，助力精密智造实现良率与效益的双重飞跃。   

如果您的产线正面临高压工况监测难题，或是想要提升制程稳定性、降低生产成本，欢迎留言或电话沟通，获取HM-150的详细资料与定制化解决方案！